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第一讲 绪论 | 第一节 薄膜的定义 | 1.1 |
第一讲 绪论 | 第二节 薄膜的制备方法及应用 | 1.2 |
第二讲 真空 | 第一节 真空 | 2.1 |
第二讲 真空 | 第二节 稀薄气体的基本性质 | 2.2 |
第二讲 真空 | 第三节 真空的获得 | 2.3 2.3 |
第二讲 真空 | 第四节 真空的测量 | 2.4 |
第三讲 蒸发 | 第一节 蒸发的基本概念 | 3.1 |
第三讲 蒸发 | 第二节 蒸发的膜厚分布 | 3.2 |
第三讲 蒸发 | 第三节 蒸发方法简介 | 3.3 |
第四讲 溅射 | 第一节 溅射与等离子体 | 4.1 |
第四讲 溅射 | 第二节 溅射特性 | 4.2 |
第四讲 溅射 | 第三节 溅射过程 | 4.3 |
第四讲 溅射 | 第四节 射频溅射与磁控溅射 | 4.4 |
第五讲 化学气相沉积 | 第一节 CVD的化学反应类型 | 5.1 |
第五讲 化学气相沉积 | 第二节 CVD的反应法则 | 5.2 |
第五讲 化学气相沉积 | 第三节 CVD装置及类型 | 5.3 |
第六讲 溶液镀膜法 | 第一节 溶胶凝胶法和LB膜 | 6.1 |
第六讲 溶液镀膜法 | 第二节 阳极氧化、电镀、化学镀 | 6.2 |
第七讲 薄膜的生长及结构 | 第一节 薄膜的生长过程 | 7.1 |
第七讲 薄膜的生长及结构 | 第二节 薄膜成核理论 | 7.2 |
第七讲 薄膜的生长及结构 | 第三节 连续薄膜的形成、薄膜结构及缺陷 | 7.3 |
第八讲 薄膜的表征方法 | 第一节 薄膜厚度测试 | 8.1 |
第八讲 薄膜的表征方法 | 第二节 薄膜形貌及结构表征 | 8.2 |
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